yabovip5

联系我们   Contact
搜索   Search

H94-37型(LED)6″双面光刻机

更新:2017-1-9 16:07:16      点击:
  • 品牌:   SVC
  • 型号:   H94-37型(LED)
  • 市场价:    元
  • 优惠价:    元 (已有 0 人购买)
  • 在线订购   加入收藏
产品介绍

  


主要用途 
      主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和
生产。由于本机找平机构先进,找平力小,使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光,而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光。


工作方式

      本机采用双面对准单面曝光方式。既可以对基片的正面进行对准曝光,又可对基片的反面相对于正面对准曝光。

主要构成
      主要由高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜、双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、多点光源(蝇眼)曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。

 


主要功能特点

1.曝光类型:正反面对准单面曝光;

2.曝光面积:160×160mm;★

3.曝光照度不均匀性:≤3%;★

4.曝光强度:≥30mw/cm2可调;★

5.紫外光束角:≤3˚;★

6.紫外光中心波长:365nm、404nm、435nm可选:

7.紫外光源寿命:≥2万小时;

8.曝光分辨率:1μm;

9.曝光模式:可选择一次曝光或套刻曝光;

10.显微镜扫描范围:X:±40mm   Y:±30mm;★

11.对准范围:X、Y粗调±3mm,细调±0.3mm;Q粗调±15°,细调±3°;★

12.套刻精度:1μm;★

13.分离量;0~50μm可调;★

14.接触-分离漂移:≤1μm;★

15.曝光方式:密着曝光,可实现硬接触、软接触和微力接触曝光;

16.找平方式:三点式自动找平;★

17.显微系统:

1)正面对准采用双视场CCD立式显微镜,总放大倍数45X~300X(物镜放大倍数1.1X~7.5X连续变倍),双物镜可调距离11mm~100mm。扫描范围:X±40mm ,Y±35mm; 

2)反面对准采用双视场CCD卧式显微镜:总放大倍数60X、120X两种(物镜放大倍数2X、4X两种),双物镜可调距离22mm~70mm

3)两种显微镜共用一套计算机图像处理系统;

18.掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″、6″×6″、7″×7″;★

19.基片尺寸:φ2、φ3、φ4、φ5、φ6;★

20.基片厚度:≤5 mm;

21.曝光定时:0~999.9秒可调;

22.对准方式:切斯曼对准机构。★

23.曝光头转位:气动;

24. 电源:单相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW

25.洁净空气压力:≥0.4MPa

26.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

27.尺寸: 920mm(长)×680mm(宽)×1600mm(高);

28.重量:约180Kg



 


更多产品